特許
J-GLOBAL ID：200903074341305992
フォトマスク及びその上に保護層を生成する方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
真田 雄造
, 中島 宣彦
, 尾原 静夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-510392
公開番号（公開出願番号）：特表2006-507547
出願日： 2003年11月25日
公開日（公表日）： 2006年03月02日
要約：
フォトマスクおよびフォトマスク上に保護層を生成する方法が開示される。その方法は、基板の少なくとも一部に形成されたパターン層を備えるフォトマスクをチャンバー中に置く。酸素がパターン層に近接するチャンバー中に導入され、そのフォトマスクが、パターン層を不動態化してパターン層の光学的特性がクリーニングプロセスによって変化しないようにするために酸素とパターン層との間の反応を開始させる放射エネルギーに露出される。
請求項（抜粋）：
フォトマスク上に保護層を生成する方法であって、
基板の少なくとも一部に形成されたパターン層を備えるフォトマスクをチャンバー中に置き、
パターン層に近接するチャンバー中に酸素を導入し、
フォトマスクを放射エネルギーに対して露出させ、
その放射エネルギーは、パターン層を不動態化してパターン層の光学的特性がクリーニングプロセスによって変化しないようにするために、酸素とパターン層との間の反応を開始させ得る
ことを特徴とする保護層生成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
2H095BC19
, 2H095BC20
, 2H095BC24
, 2H095BC31
