特許
J-GLOBAL ID:200903074614586167
蒸着装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石島 茂男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-126381
公開番号(公開出願番号):特開2003-321769
出願日: 2002年04月26日
公開日(公表日): 2003年11月14日
要約:
【要約】【課題】同軸型真空アーク蒸着源による成膜時に、液滴が薄膜に混入しない技術を提供する。【解決手段】本発明の蒸着装置1は、アノード電極30の開口と基板ホルダ5とを内部磁力線99で結ぶ磁界形成手段7を有している。磁界形成手段7に入射した荷電微小粒子は、各磁石711〜715で構成される大きな筒内部を通る内部磁力線99により力を受け、内部磁力線99に巻き付きながら基板8表面に到達して、薄膜が成長する。アノード電極30の開口から微小荷電粒子よりも大きな液滴が放出されると、その液滴は内部磁力線99による力を受けずに直進し、各磁石711〜715間の隙間から磁界形成手段7の外部へ漏れ出る。内部磁力線99は湾曲し、基板ホルダ5に保持された基板8は、 内部磁力線99の延長線上に位置しており、内部磁力線99に巻き付かない液滴は基板8には到達しない。
請求項(抜粋):
真空槽と、前記真空槽内に配置された蒸着源を有し、前記蒸着源は、直線状のカソード電極と、前記カソード電極の先端に配置された蒸着材料と、前記蒸着材料の側方に配置されたアノード電極と、前記蒸着材料近傍に配置されたトリガ電極を備え、前記アノード電極と蒸着材料との間に電圧を印加した状態で、前記トリガ電極と前記蒸着材料との間にトリガ放電を発生させると、前記アノード電極と前記蒸着材料との間にアーク放電が誘起され、前記アーク放電により蒸着材料の構成物質からなる荷電微小粒子が前記アノード電極方向に放出され、前記カソード電極内部に直線的に流れたアーク電流が形成する磁界により、前記荷電微小粒子の飛行方向が前記アーク電流と平行な方向に曲げられ、前記蒸着材料と前記アノード電極との間の空間を放出口としたときに、前記荷電微小粒子が前記放出口から放出される蒸着源であって、前記真空槽内には、基板ホルダと磁界形成手段とが配置され、前記磁界形成手段は、前記基板ホルダと前記放出口との間に磁力線を形成するように構成された蒸着装置。
IPC (2件):
FI (2件):
C23C 14/24 F
, G11B 5/85 A
Fターム (8件):
4K029CA01
, 4K029CA03
, 4K029DB17
, 4K029DD06
, 4K029DE05
, 4K029EA07
, 5D112FA02
, 5D112FB21
引用特許:
審査官引用 (10件)
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同軸型真空アーク蒸着源を有する蒸着装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-177590
出願人:日本真空技術株式会社
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薄膜形成装置および薄膜形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-347430
出願人:工業技術院長
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膜形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-177691
出願人:日新電機株式会社
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成膜方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-145452
出願人:ソニー株式会社
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立方晶窒化ホウ素膜の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-156760
出願人:ソニー株式会社
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薄膜作製装置と方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-285916
出願人:ソニー株式会社
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真空アーク蒸発装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-282012
出願人:日新電機株式会社
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アーク式イオンプレーティング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-231385
出願人:日新電機株式会社
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成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-022907
出願人:ニチメン電子工研株式会社
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真空アーク蒸着装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-303266
出願人:日新電機株式会社
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