特許
J-GLOBAL ID:200903075195571827
感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-038307
公開番号(公開出願番号):特開2005-227680
出願日: 2004年02月16日
公開日(公表日): 2005年08月25日
要約:
【課題】 IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、感度、解像力及びデフォーカスラチィチュード(DOF)に優れた感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物である-SO2-結合を有するカチオンを有するスルホニウム塩(A)、当該スルホニウム塩を含有する感光性組成物、及び、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法。
請求項(抜粋):
一般式(I)で表されるカチオンを有するスルホニウム塩(A)を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (5件):
G03F7/004
, C07C381/12
, G03F7/038
, G03F7/039
, H01L21/027
FI (5件):
G03F7/004 503A
, C07C381/12
, G03F7/038 601
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
Fターム (18件):
2H025AA00
, 2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB14
, 2H025AB15
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB42
, 2H025CC17
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB92
引用特許:
出願人引用 (11件)
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米国特許第6548221号明細書
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レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-112372
出願人:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-065051
出願人:富士写真フイルム株式会社
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審査官引用 (13件)
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レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-112372
出願人:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-065051
出願人:富士写真フイルム株式会社
-
感放射線性レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-032855
出願人:富士写真フイルム株式会社
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引用文献:
審査官引用 (1件)
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JOEM Handbook 3 イメージング用有機材料, 19971016, 74-76
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