特許
J-GLOBAL ID：200903075413103911

レジスト用重合体、レジスト組成物、パターンが形成された基板の製造方法

発明者：
百瀬 陽

百瀬 陽 について

, 
中村 雅

中村 雅 について


出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-290491
公開番号（公開出願番号）：特開2007-146142
出願日： 2006年10月25日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】液浸用レジスト組成物に用いた場合に、浸漬液よりも高い屈折率となり、他の単量体との共重合性に優れたレジスト用重合体の提供。【解決手段】下記式で表されるナフタレン骨格を有する構成単位を含有するレジスト用重合体。(R10は水素原子またはメチル基、Gは-C(=O)-O-、-O-、または-O-C(=O)-のいずれかを表す。L1およびL2は、2価の炭化水素基,Yは-C(=O)-OH、-OH、-C(=O)-OR13、または-OR13を表す。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記式(1-1)で表されるナフタレン骨格を有する構成単位(A)を含有するレジスト用重合体。
IPC (6件)：
C08F 20/10 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027 ,  C08F 16/14 ,  C08F 18/04 ,  G03F 7/039
FI (6件)：
C08F20/10 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R ,  C08F16/14 ,  C08F18/04 ,  G03F7/039 601
Fターム (63件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AE09P ,  4J100AG08P ,  4J100AL02R ,  4J100AL04R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02P ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03S ,  4J100BA04R ,  4J100BA04S ,  4J100BA08P ,  4J100BA15P ,  4J100BA15R ,  4J100BA16P ,  4J100BA20R ,  4J100BA40S ,  4J100BB18S ,  4J100BC03P ,  4J100BC03R ,  4J100BC03S ,  4J100BC04P ,  4J100BC04R ,  4J100BC04S ,  4J100BC07P ,  4J100BC07R ,  4J100BC07S ,  4J100BC08P ,  4J100BC08R ,  4J100BC08S ,  4J100BC12P ,  4J100BC12R ,  4J100BC49P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC53S ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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