特許
J-GLOBAL ID：200903077215985537
大型ペリクル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中川 周吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-340431
公開番号（公開出願番号）：特開2001-201845
出願日： 2000年11月08日
公開日（公表日）： 2001年07月27日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、大型ペリクル膜を展張して貼着支持する枠体が該枠体の内側に向かう撓みを抑制してフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保することが出来、大型ペリクル内外の気圧差の発生を抑制して大型ペリクル膜が該大型ペリクル膜面の鉛直方向に膨らんだり凹んだりして露光不良を引き起こすことがない大型ペリクルを提供することを可能にすることを目的としている。【解決手段】 枠体1の少なくとも1辺の長さが200mm以上で、且つ該枠体1の弾性率に断面2次モーメントを乗じた値が4×106Nmm2以上で、且つ該枠体1に展張して貼着支持されたペリクル膜2の張力が2×10-2N/mm以上、且つ1×10-1N/mm以下で構成したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
枠体に大型ペリクル膜を展張して貼着支持した大型ペリクルにおいて、前記枠体の少なくとも1辺の長さが200mm以上で、且つ該枠体の弾性率に断面2次モーメントを乗じた値が4×106Nmm2以上で、且つ前記枠体に展張して貼着支持された大型ペリクル膜の張力が2×10-2N/mm以上、且つ1×10-1N/mm以下であることを特徴とする大型ペリクル。
Fターム (1件)：
引用特許：
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