特許
J-GLOBAL ID：200903077613590615

基板処理装置

発明者：
皿井 康雄

皿井 康雄 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-028145
公開番号（公開出願番号）：特開2004-241547
出願日： 2003年02月05日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：
【課題】装置や部品の輸送時の不便等の問題を解決することができる基板処理装置を提供すること。【解決手段】本発明はレジスト塗布処理ユニットを支持するフレームを3つのフレーム101、102、103に分割できる構成とする。これによりトラック等による装置の輸送時に、フレームを分割することができるので容易にトラック等に積むことができる。また、レジスト塗布処理ユニットを工場内に設置した場合においてはフレームを分割してメンテナンスを行うことができ、安全であり、作業が容易となる。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
基板を処理する処理部と、 複数に分割することが可能に設けられ、前記処理部を支持する支持部材と を具備することを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件)：
H01L21/027 ,  B05C9/12 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  G02F1/13
FI (5件)：
H01L21/30 564C ,  B05C9/12 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  G02F1/13 101
Fターム (17件)：
2H088FA21 ,  2H088FA23 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA02 ,  2H088MA20 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042AA10 ,  4F042AB00 ,  4F042CC04 ,  4F042CC09 ,  4F042CC10 ,  4F042DC00 ,  4F042DF32 ,  4F042EB13 ,  5F046JA27
引用特許：
出願人引用 (9件)
  • 特開昭64-077126
  • 露光装置、輸送方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-401142   出願人：株式会社ニコン
  • 基板処理装置および基板処理装置用治具
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-288640   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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審査官引用 (9件)
  • 特開昭64-077126
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-394157   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 露光装置、輸送方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-401142   出願人：株式会社ニコン
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