特許
J-GLOBAL ID：200903079199759141

コンタクトホールの形成方法

発明者：
三本木 省 次

三本木 省 次 について

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中 村 裕 子

中 村 裕 子 について

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井 上 壮 一

井 上 壮 一 について

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福 原 和 也

福 原 和 也 について

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田 中 聡

田 中 聡 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (6件)： 吉武 賢次 ,  橘谷 英俊 ,  佐藤 泰和 ,  吉元 弘 ,  川崎 康 ,  岡澤 順生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-362145
公開番号（公開出願番号）：特開2005-129648
出願日： 2003年10月22日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：
【課題】 密集部における解像性を高く確保しつつも低コストでコンタクトホールを形成する。【解決手段】 第1の方向及びこれに直交する第2の方向に周期的に配置されたマスクパターンを有するフォトマスクと2重照明とを用いて、基板上の第1の感光性レジスト膜を露光及び現像して、前記第1の方向に沿った第1のラインアンドスペースを形成し、この後、前記基板上に、第2の感光性レジスト膜を形成し、前記フォトマスクと、前記2重照明に直交する2重照明を用いて、前記第2の感光性レジスト膜を露光及び現像して、前記第1のラインアンドスペースに直交する第2のラインアンドスペースを形成する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
光源とアパーチャとコンデンサレンズとを有する照明系と、前記照明系からの光が入射されるフォトマスクと、前記フォトマスクからの光を基板上に投影する投影レンズとを備えた投影露光装置を用いて前記基板上にコンタクトホールを形成するコンタクトホールの形成方法であって、 基板上に第1の感光性レジスト膜を形成し、 第1の方向及びこれに直交する第2の方向に周期的に配置されたマスクパターンを有するフォトマスクと、前記第1の方向に沿って中心点に点対称に配置された第1及び第2の光透過部を有するアパーチャとを用いて、前記第1の感光性レジスト膜を露光して、前記第1の方向に沿った第1のラインアンドスペースのパターンを前記第1の感光性レジスト膜に転写し、 露光された前記第1の感光性レジスト膜を現像して前記第1のラインアンドスペースを形成し、 この後、前記基板上に、第2の感光性レジスト膜を形成し、 前記フォトマスクと、前記第2の方向に沿って中心点に点対称に配置された前記第1及第2の光透過部を有するアパーチャとを用いて、前記第2の感光性レジスト膜を露光して、前記第1のラインアンドスペースのパターンに直交する第2のラインアンドスペースのパターンを前記第2の感光性レジスト膜に転写し、 この後、前記第2の感光性レジスト膜を現像して、前記第2のラインアンドスペースを形成する、 ことを特徴とするコンタクトホールの形成方法。
IPC (4件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/3065
FI (5件)：
H01L21/30 514C ,  G03F7/20 521 ,  G03F7/26 511 ,  H01L21/302 105A ,  H01L21/30 528
Fターム (12件)：
2H096AA25 ,  2H096EA11 ,  2H096HA23 ,  2H096KA02 ,  5F004EA02 ,  5F004EB01 ,  5F046AA13 ,  5F046AA28 ,  5F046BA08 ,  5F046CB05 ,  5F046CB13 ,  5F046CB17
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (6件)
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