特許
J-GLOBAL ID：200903055703735449
フォトマスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田 幹雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-289578
公開番号（公開出願番号）：特開2003-233163
出願日： 2002年10月02日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：
【要約】【課題】 斜入射照明を具現するフォトマスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】 透明基板100と、透明基板100の前面に形成されてパターン形成のための投光部を限定する多数の遮光パターン110、及び透明基板100の背面に形成されて入射する光源を露光設備の斜入射限界以上に斜入射させ、アパーチャの最外郭領域まで使用可能にし、前記遮光パターンのレイアウトに適した変形照明が具現できる多数の位相格子130を含んでなる。
請求項（抜粋）：
透明基板と、前記透明基板の前面に形成されてパターン形成のための投光部を限定する多数の遮光パターンと、前記透明基板の背面に形成されて入射する光源を露光設備の斜入射限界以上に斜入射させ、アパーチャの最外郭領域まで使用可能にし、前記遮光パターンのレイアウトに適した形状の変形照明が具現できる多数の位相格子とを含むことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, G03F 1/08 B
, H01L 21/30 502 P
2H095BA01
, 2H095BB03
, 2H095BB08
, 2H095BB10
, 2H095BB15
, 2H095BB16
, 2H095BB25
, 2H095BB31
, 2H095BC17
, 2H095BC28
