特許
J-GLOBAL ID：200903079617720338

面発光レーザ、およびその製造方法および装置

発明者：
鈴木 貞一

鈴木 貞一 について

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長尾 太介

長尾 太介 について

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山田 高幸

山田 高幸 について

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山崎 芳文

山崎 芳文 について


出願人/特許権者：
富士ゼロックス株式会社

富士ゼロックス株式会社 について


代理人 (1件)： 平田 忠雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-173687
公開番号（公開出願番号）：特開2006-351692
出願日： 2005年06月14日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：
【課題】 発振波長を高精度に制御することが可能な面発光レーザ、およびその製造方法および装置を提供する。【解決手段】 高精度に発振波長を制御できる面発光レーザ1を作製するため片面にn電極11が形成されたn型GaAs基板12上に、下部DBR層13、活性層14および第1の上部DBR層(上部反射層)15Aを形成する。その段階で反射率または透過率を計測し、所望の発振波長になるように、第1の上部DBR層15A上に波長調整をするための波長調整層16を形成する。更に、波長調整層16上に、第2の上部DBR層(上部反射層)15B及びp電極17を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
活性層の上下面をそれぞれ多層膜による上部反射層および下部反射層で挟持した面発光レーザにおいて、 前記上部反射層は、所定の厚さの波長調整層を含むことを特徴とする面発光レーザ。
IPC (1件)：
H01S 5/183
FI (1件)：
H01S5/183
Fターム (8件)：
5F173AC03 ,  5F173AC04 ,  5F173AC14 ,  5F173AC35 ,  5F173AC42 ,  5F173AC52 ,  5F173AF96 ,  5F173AH03
引用特許：
出願人引用 (14件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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