高屈折率均一性溶融シリカガラスおよびその製造方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：柳田征史 , 佐久間剛
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-549589
公開番号（公開出願番号）：特表2008-525309
出願日： 2005年12月28日
公開日（公表日）： 2008年07月17日
要約：

光軸に垂直な平面内に高いOH濃度均一性を有する高純度合成シリカガラス材料およびその製造方法を開示する。ガラスは、高い屈折率均一性を有する。ガラスは、193nmにおいて少なくとも99.65%/cmの高い内部透過率を有しうる。本方法は、焼結後の均一化工程を必要としない。高い組成均一性、したがって高い屈折率均一性に対する制御因子としては、スートプリフォーム中の高い初期局所スート密度均一性および緩速な焼結、とくに、固結時の恒温処理が挙げられる。

請求項（抜粋）：

0.1〜1300重量ppmのOH含有量を有する合成シリカガラス材料であって、その軸に垂直な平面内のOH濃度の変動が20重量ppm未満であることを特徴とする、合成シリカガラス材料。

IPC (3件)：

C03B 20/00 , C03B 8/04 , C03C 3/06

FI (6件)：

C03B20/00 F , C03B8/04 A , C03B8/04 J , C03B8/04 L , C03B8/04 P , C03C3/06

Fターム (70件)：

4G014AH11 , 4G014AH12 , 4G014AH14 , 4G014AH16 , 4G014AH21 , 4G062AA04 , 4G062BB02 , 4G062CC06 , 4G062DA08 , 4G062DB01 , 4G062DC01 , 4G062DD01 , 4G062DE01 , 4G062DF01 , 4G062EA01 , 4G062EA02 , 4G062EB01 , 4G062EB02 , 4G062EC01 , 4G062EC02 , 4G062ED01 , 4G062ED02 , 4G062EE01 , 4G062EE02 , 4G062EF01 , 4G062EF02 , 4G062EG01 , 4G062EG02 , 4G062FA01 , 4G062FA10 , 4G062FB01 , 4G062FC01 , 4G062FD01 , 4G062FE01 , 4G062FF01 , 4G062FG01 , 4G062FH01 , 4G062FJ01 , 4G062FK01 , 4G062FL01 , 4G062GA01 , 4G062GA10 , 4G062GB01 , 4G062GC01 , 4G062GD01 , 4G062GE01 , 4G062HH01 , 4G062HH03 , 4G062HH05 , 4G062HH07 , 4G062HH09 , 4G062HH11 , 4G062HH13 , 4G062HH15 , 4G062HH17 , 4G062HH20 , 4G062JJ01 , 4G062JJ03 , 4G062JJ05 , 4G062JJ06 , 4G062JJ07 , 4G062JJ10 , 4G062KK01 , 4G062KK03 , 4G062KK05 , 4G062KK07 , 4G062KK10 , 4G062MM02 , 4G062NN16 , 4G062NN35

引用特許：

出願人引用 (8件)

米国特許第5,086,352号明細書
米国特許第5,325,230号明細書
特開昭40-10228号抄録文

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審査官引用 (10件)

エキシマレーザ及びエキシマランプ用のシリカガラス光学材料及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-296101 出願人：信越石英株式会社
高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-145938 出願人：信越石英株式会社
特開平3-088743

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