特許
J-GLOBAL ID：200903080723116367
基板乾燥装置およびそれを備えた基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-107168
公開番号（公開出願番号）：特開2009-260034
出願日： 2008年04月16日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：
【課題】基板から液体を確実に除去することが可能な基板乾燥装置およびそれを備えた基板処理装置を提供する。【解決手段】第1および第2の洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2において、リンス液供給ノズル660は、リンス液供給管661aを介して脱気モジュールDMに接続されている。脱気モジュールDMはリンス液供給管661bを介してリンス液供給源R2に接続されている。脱気モジュールDMにおいて、リンス液の脱気処理が行われる。脱気処理後のリンス液が、リンス液供給管661aを通してリンス液供給ノズル660に供給される。基板Wの乾燥処理時に、リンス液供給ノズル660から基板W上にリンス液が供給される。それにより、基板W上にリンス液の液層が形成される。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板の乾燥処理を行う基板乾燥装置であって、
基板を略水平に保持しつつ回転させる基板回転保持手段と、
前記基板回転保持手段に保持された基板上にリンス液の液層を形成する液層形成手段と、
前記基板回転保持手段により基板が回転する状態で、前記液層形成手段により基板上に形成されたリンス液の液層の中心部に向けて気体を吐出する気体吐出手段とを備え、
前記液層形成手段は、
リンス液から気体を除去する気体除去手段と、
前記気体除去手段により気体が除去されたリンス液を基板上に供給するリンス液供給手段とを含むことを特徴とする基板乾燥装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304
, H01L 21/027
H01L21/304 651B
, H01L21/304 651L
, H01L21/30 569F
5F046DA29
, 5F046LA04
, 5F046LA07
, 5F046LA14
, 5F157AA71
, 5F157AA91
, 5F157AB02
, 5F157AB33
, 5F157AB44
, 5F157AC04
, 5F157AC24
, 5F157BD54
, 5F157CB02
, 5F157CB15
, 5F157CE07
, 5F157CF16
, 5F157CF72
, 5F157CF74
, 5F157CF76
, 5F157DB34
, 5F157DB37
出願人引用 (2件)
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基板処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-129817
出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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国際公開第99/49504号パンフレット
審査官引用 (7件)
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