特許
J-GLOBAL ID：200903081282994980

露光条件出し装置と露光条件出し方法および処理装置

発明者：
坂本 和生

坂本 和生 について

, 
柏木 秀明

柏木 秀明 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-197350
公開番号（公開出願番号）：特開2002-093697
出願日： 2001年06月28日
公開日（公表日）： 2002年03月29日
要約：
【要約】【課題】 露光条件出しの自動化により工数を削減して生産効率を高めることを可能とし、また製品の品質を高く保つことを可能ならしめる露光条件出し装置と露光条件出し方法ならびにこの露光条件出し装置を備えた処理装置を提供する。【解決手段】 露光条件出し装置は、所定パターンで基板の異なる複数の位置を異なる露光量とフォーカス値で露光し、現像して形成される現像パターンの状態を光情報に変換して、この光情報から最適な露光量およびフォーカス値の組合せを決定する。具体的には、露光条件出し装置80は、例えば、半導体ウエハ等の基板に形成された現像パターンの所定範囲に一定強さの光を照射する光照射部81と、一定強さの光が照射された所定範囲の反射光強度を測定する検出部82と、この反射光強度から適切な露光量とフォーカス値によって露光された箇所を検索して露光条件を決定する演算処理部83とを有する。
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィー工程における露光条件出しに用いられる露光条件出し装置であって、所定パターンで基板の異なる複数の位置を異なる露光量とフォーカス値で露光し、現像して形成される現像パターンの状態を光情報に変換して、前記光情報から最適な露光量およびフォーカス値の組合せを決定する手段を具備することを特徴とする露光条件出し装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G01B 11/02 ,  G03F 7/20 521
FI (4件)：
G01B 11/02 H ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 E ,  H01L 21/30 516 Z
Fターム (20件)：
2F065AA22 ,  2F065BB18 ,  2F065CC17 ,  2F065FF42 ,  2F065GG22 ,  2F065GG23 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ06 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ42 ,  2F065RR06 ,  2F065RR09 ,  5F046AA18 ,  5F046DA02 ,  5F046DA14
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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