特許
J-GLOBAL ID：200903084172468300
光学フィルタおよびその光学フィルタの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
五十嵐 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-127178
公開番号（公開出願番号）：特開2001-305337
出願日： 2000年04月27日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：
【要約】【課題】 製品用基板上に成膜される膜の光学膜厚を正確に制御し、正確な光学膜厚の光フィルタを製造する。【解決手段】 モニタ基板2上に成膜される膜の光学膜厚と、この膜の反射率との関係データを膜物質ごとに予め求めて膜厚制御データとする。成膜エリア7内に製品用基板3とモニタ基板2とをそれぞれ配置してこれらの基板上に同時に膜を成膜したときに、モニタ基板2上に成膜される膜の光学膜厚と製品用基板3上に成膜される膜の光学膜厚とのずれ量を補正する補正係数のデータをモニタ光の波長に対応させて膜物質ごとに予め求めて膜厚補正係数データとする。製品用基板3上に製品用膜を成膜するときにモニタ基板2上にも同時に成膜してモニタ基板2上の膜の反射率を測定し、この測定値が前記膜厚補正係数データにより補正された光学膜厚に対応する前記膜厚制御データの反射率となったら、成膜を停止する。
請求項（抜粋）：
モニタ基板上に膜を成膜しながら該膜にモニタ光を照射したときの該モニタ光の反射率と透過率の少なくとも一方のモニタ特性を求め、前記成膜される膜の光学膜厚と前記モニタ特性との関係データを膜物質ごとに予め求めて膜厚制御データとし、一方、成膜装置内に製品用基板と前記モニタ基板とをそれぞれ配置してこれらの基板上に同時に膜を成膜したときに、モニタ基板上に成膜される膜の光学膜厚と前記製品用基板上に成膜される膜の光学膜厚とのずれ量を補正する補正係数のデータを互いに異なる複数の波長のモニタ光に対応させて膜物質ごとに予め求めて膜厚補正係数データとし、前記製品用基板上に製品用膜を成膜して光学フィルタを製造するときに、前記成膜装置内に製品用基板と前記モニタ基板とをそれぞれ配置してこれらの基板上に同時に膜を成膜しながら、前記モニタ基板上に形成される膜に前記モニタ光を照射して前記モニタ特性を測定し、この測定値と前記膜厚補正係数データにより補正された光学膜厚に対応する前記膜厚制御データのモニタ特性とに基づいて前記製品用基板上に成膜する製品用膜の成膜膜厚を制御することを特徴とする光学フィルタの製造方法。
Fターム (5件)：
2H048GA12
, 2H048GA33
, 2H048GA51
, 2H048GA60
, 2H048GA62
