特許
J-GLOBAL ID：200903084268735954
リンス処理方法および現像処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-207574
公開番号（公開出願番号）：特開2006-030483
出願日： 2004年07月14日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：
【課題】現像処理における析出系欠陥の発生、CD変動、リンス液によるレジストパターンの溶解を抑制するリンス処理方法および現像処理方法を提供する。【解決手段】露光パターンを現像処理した後の基板に、臨界ミセル濃度以下のポリエチレングリコール系またはアセチレングリコール系の界面活性剤を含有するリンス液を供給してリンス処理する。好ましくは、界面活性剤の分子量が1280以上であり、かつ、その疎水基の炭素数が14以上であり、さらに疎水基が二重結合および三重結合を有していない界面活性剤を用いる。【選択図】図11
請求項（抜粋）：
露光パターンを現像処理した後の基板に、臨界ミセル濃度以下のポリエチレングリコール系またはアセチレングリコール系の界面活性剤を含有するリンス液を供給してリンス処理することを特徴とするリンス処理方法。
IPC (3件)：
G03F 7/32
, G03F 7/30
, H01L 21/027
G03F7/32 501
, G03F7/30
, H01L21/30 569E
2H096AA25
, 2H096GA18
, 2H096GA60
, 5F046LA12
出願人引用 (2件)
審査官引用 (6件)
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