特許
J-GLOBAL ID:200903084322763799

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大島 正孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-369301
公開番号(公開出願番号):特開2007-171572
出願日: 2005年12月22日
公開日(公表日): 2007年07月05日
要約:
【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物およびそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供することにある。【解決手段】不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、フェノール骨格含有不飽和化合物および上記化合物以外の不飽和化合物の共重合体、ならびに1,2-キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
[A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、 (a2)エポキシ基含有不飽和化合物、 (a3)下記式(I)
IPC (3件):
G03F 7/027 ,  G03F 7/40 ,  G02B 3/00
FI (3件):
G03F7/027 ,  G03F7/40 501 ,  G02B3/00 A
Fターム (17件):
2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AA14 ,  2H025AB14 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025FA29 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA10 ,  2H096EA02 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (4件)
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