特許
J-GLOBAL ID：200903084343553247
露光方法及び露光装置並びにデバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 康徳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-020683
公開番号（公開出願番号）：特開2002-222760
出願日： 2001年01月29日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
要約：
【要約】【課題】走査露光装置のオーバレイ精度を向上させる。【解決手段】レチクルを交換する都度(S1103)、それに合わせて、ディレクションオーバレイ補正テーブルを更新する(S1102、S1105)。露光装置の制御装置は、ディレクションオーバレイ補正テーブルに基づいて、ウエハステージの目標位置(目標軌跡)を補正する。
請求項（抜粋）：
露光動作に関連する制御要素を目標軌跡に基づいて移動させながら原版のパターンを基板に転写する露光方法であって、前記原版に対応して準備された補正情報に基づいて前記目標軌跡を補正する補正工程と、補正された目標軌跡に従って前記制御要素を移動させながら前記原版のパターンを前記基板に転写する転写工程と、を含むことを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/22 H
, H01L 21/30 516 A
5F046CC01
, 5F046CC13
, 5F046DB05
