特許
J-GLOBAL ID：200903088134489952
位置検出用マーク、位置検出装置、位置検出方法、露光装置、および露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-295510
公開番号（公開出願番号）：特開2004-134473
出願日： 2002年10月09日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：
【課題】高いスループットで位置検出を行うことができ、且つ重ね合わせ測定用マークのうちの一方のマークを兼用することにより高精度な位置検出を行うことのできる位置検出用マーク。【解決手段】基板上に形成されて、第1方向(X方向)に沿った基板の位置および第1方向と直交する第2方向(Y方向)に沿った基板の位置を検出するための位置検出用マーク。マークの中心(O)から第1方向に沿って第1距離(D1)だけ間隔を隔てて配置されて第1方向に周期性を有する第1パターン(WMXa,WMXb)と、中心から第2方向に沿って第1距離と実質的に異なる第2距離(D2)だけ間隔を隔てて配置されて第2方向に周期性を有する第2パターン(WMYa,WMYb)とを備えている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板上に形成されて、第1方向に沿った前記基板の位置および前記第1方向と直交する第2方向に沿った前記基板の位置を検出するための位置検出用マークにおいて、
前記マークの中心から前記第1方向に沿って第1距離だけ間隔を隔てて配置されて前記第1方向に周期性を有する第1パターンと、前記中心から前記第2方向に沿って前記第1距離と実質的に異なる第2距離だけ間隔を隔てて配置されて前記第2方向に周期性を有する第2パターンとを備えていることを特徴とする位置検出用マーク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 502M
, G03F9/00 H
, H01L21/30 522B
5F046EA03
, 5F046EA04
, 5F046EA09
, 5F046EA12
, 5F046EB01
, 5F046EB02
, 5F046EB07
, 5F046ED01
, 5F046FA03
, 5F046FA10
