特許
J-GLOBAL ID：200903088390560966

半導体露光装置の架台支持方法および支持装置

発明者：
伊藤 浩司

伊藤 浩司 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-326318
公開番号（公開出願番号）：特開2001-144005
出願日： 1999年11月17日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：
【要約】【課題】 露光装置の設置用架台の振動特性を決める指標として架台の質量と支持剛性の積を用いることにより、架台の設計を容易にし、架台に対して過度の要求をすることなく、露光装置に十分な性能を発揮させることができかつコスト・パフォーマンスに優れた露光装置の架台支持方法および支持装置を提供する。【解決手段】 半導体露光装置1を装置支持手段3を介して搭載する架台2を架台支持手段5を介して建屋床4に接続する架台支持装置において、架台2の振動特性を決める指標として架台2の質量Mと架台支持手段5の剛性Kの積を用い、この積M・Kが、3×1011〜6×1012[kg/s]2 の範囲の値となるように、架台2および架台支持手段5をそれぞれ設定する。これにより、半導体露光装置の架台として適切な振動特性をもたせることができ、また、設計の自由度も高いため、製作コストを抑えることも可能となる。
請求項（抜粋）：
半導体露光装置を装置支持手段を介して搭載する架台を架台支持手段を介して建屋床に接続する半導体露光装置の架台支持方法において、前記架台および前記架台支持手段を、前記架台の質量と前記架台支持手段の剛性の積が3×1011〜6×1012[kg/s]2 の範囲の値となるように、それぞれを設定することを特徴とする半導体露光装置の架台支持方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  F16F 15/02
FI (2件)：
F16F 15/02 A ,  H01L 21/30 503 F
Fターム (9件)：
3J048AA02 ,  3J048AC01 ,  3J048AD05 ,  3J048BF01 ,  3J048CB21 ,  3J048CB22 ,  3J048DA01 ,  3J048EA13 ,  5F046AA23
引用特許：
審査官引用 (9件)
  • 振動減衰装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-340144   出願人：東燃株式会社
  • ビーム応用装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-069037   出願人：株式会社日立製作所
  • 特開昭62-228729
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