重ね合わせ測定装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：古谷史旺 , 森俊秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-185465
公開番号（公開出願番号）：特開2007-005649
出願日： 2005年06月24日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：

【課題】ウエハのプロセス条件が変化しても、重ね合わせ測定値を高い信頼性で求めることができる重ね合わせ測定装置を提供する。【解決手段】基板11の異なる層に形成された第1マークと第2マークの像を形成する結像光学系19〜25と、基板と結像光学系との相対位置を調整し、第1マークと第2マークの焦点合わせを行う手段12,27,28と、焦点合わせの後、相対位置のオフセットおよび/または結像光学系の像面に入射する光の波長域を変化させて光学条件を順に設定する手段12,3B,27と、各光学条件で第1マークと第2マークの画像を取り込み、該画像から重ね合わせずれ量を求める手段27と、オフセットが同じで波長域が異なる複数の光学条件での重ね合わせずれ量のばらつきを、各オフセットごとに求め、該ばらつきが最も小さいオフセットをレシピに登録すべき情報として決定する手段27とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板の異なる層に形成された互いに所定の位置関係を有する第1マークと第2マークとの像を結像する結像光学系と、前記基板と前記結像光学系との相対位置を調整し、前記第1マークと前記第2マークとに焦点合わせを行う調整手段と、前記焦点合わせの後、前記相対位置のオフセット位置および/または前記結像光学系の像面に入射する光の波長を変化させ、前記オフセット位置と前記波長との複数の異なる組み合わせからなる光学条件を設定する設定手段と、前記設定手段によって設定される各々の前記光学条件で、前記結像光学系を介して前記第1マークと前記第2マークとの画像を取り込み、該画像から前記第1マークと前記第2マークとの重ね合わせずれ量を求める計測手段と、前記オフセット位置が同じで前記波長が異なる複数の前記光学条件で前記計測手段が求めた前記重ね合わせずれ量のばらつきを、各々の前記オフセット位置ごとに求め、該ばらつきが最も小さい前記オフセット位置をレシピに登録すべき情報として決定する決定手段とを備えたことを特徴とする重ね合わせ測定装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00 , G01B 11/00

FI (4件)：

H01L21/30 520C , G03F9/00 H , H01L21/30 502V , G01B11/00 H

Fターム (52件)：

2F065AA03 , 2F065AA12 , 2F065AA14 , 2F065AA20 , 2F065BB02 , 2F065BB27 , 2F065CC19 , 2F065CC25 , 2F065DD03 , 2F065DD04 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065FF10 , 2F065FF41 , 2F065FF48 , 2F065FF61 , 2F065GG02 , 2F065GG24 , 2F065HH12 , 2F065HH13 , 2F065JJ02 , 2F065JJ03 , 2F065JJ05 , 2F065JJ25 , 2F065JJ26 , 2F065LL01 , 2F065LL04 , 2F065LL22 , 2F065LL30 , 2F065LL46 , 2F065LL47 , 2F065MM03 , 2F065PP12 , 2F065QQ13 , 2F065QQ14 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ29 , 2F065QQ41 , 2F065QQ43 , 2F065RR09 , 2F065UU07 , 5F046EA04 , 5F046EB01 , 5F046FA07 , 5F046FA10 , 5F046FA17 , 5F046FB08 , 5F046FB09 , 5F046FB13 , 5F046FC03 , 5F046FC04

引用特許：

審査官引用 (11件)

重ね合わせ検査方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-277496 出願人：キヤノン株式会社
露光方法と露光装置、及びデバイスの製造方法とマイクロデバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-143975 出願人：株式会社ニコン
特開昭59-079527

全件表示

前のページに戻る