特許
J-GLOBAL ID：200903089823109055

熱処理装置及び熱処理方法

発明者：
久我 恭弘

久我 恭弘 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-122401
公開番号（公開出願番号）：特開2003-318091
出願日： 2002年04月24日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：
【要約】【課題】 不安定な気流がウェハの外縁部に形成され,ウェハ外縁部の熱処理に悪影響を及ぼすことを防止する。【解決手段】 蓋体61の天板70の中央部に,パージ用のガスの供給口72が設けられる。蓋体61の側部61aに排気口81が設けられる。排気口81は,熱板63上のウェハWの外方であってウェハWよりも高い位置に設けられる。蓋体61の内側には,第1及び第2の整流板73,74が設けられる。側部61aの内部には,排気口81に通じる排気通路80が形成され,天板70上には,排気通路80に通じる不純物回収部87が設けられる。熱処理中は,ガスが処理室S上部の供給口72から導入され,第1及び第2の整流板73,74を通過し,ウェハWよりも高い位置の処理室S側部の排気口81から排気される。従って,ガスがウェハW表面付近を通過することがなく,気流による悪影響を防止できる。
請求項（抜粋）：
処理室内で基板を熱処理する熱処理装置であって,基板を載置し熱処理する熱処理板と,この熱処理板を上方から覆い,処理室の一部を形成する蓋体と,を備え,前記蓋体は,上面部と側部を有し下面側が開口した略筒状の形態を有し,前記上面部は,前記熱処理板上の基板に対向し,前記上面部には,処理室内に気体を供給する供給口が設けられ,前記蓋体の側部であって前記熱処理板上の基板よりも高い位置には,前記処理室内の気体を排気するための排気口が設けられていることを特徴とする,熱処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/38 501 ,  G03F 7/38 511 ,  G03F 7/40 501
FI (4件)：
G03F 7/38 501 ,  G03F 7/38 511 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/30 567
Fターム (7件)：
2H096AA25 ,  2H096DA01 ,  2H096FA01 ,  2H096GB00 ,  2H096HA01 ,  5F046KA04 ,  5F046KA05
引用特許：
審査官引用 (7件)
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