パターン形成方法及びTFTアレイ基板並びに液晶表示素子

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：廣田浩一 , 流良広 , 松田奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-160666
公開番号（公開出願番号）：特開2007-328234
出願日： 2006年06月09日
公開日（公表日）： 2007年12月20日
要約：

【課題】大画面用の液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)の作製に好適なパターン形成方法及びTFTアレイ基板並びに液晶表示素子の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性を発現する樹脂と、少なくとも波長405nmの光に対して吸収性を有して酸を発生する光酸発生剤と、を少なくとも含むポジ型感光性組成物を用いて基材の表面に、少なくとも、ポジ型感光層を形成するポジ型感光層形成工程と、該ポジ型感光層表面に、質量平均分子量が8,000〜100,000のポリビニルアルコールを少なくとも含む保護膜を形成する保護膜形成工程と、前記ポジ型感光層を、保護膜側から露光する露光工程と、該露光工程により露光されたポジ型感光層を現像する現像工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法、並びに該パターン形成方法により形成されるTFTアレイ基板及び液晶表示素子である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ可溶性を発現する樹脂と、少なくとも波長405nmの光に対して吸収性を有して酸を発生する光酸発生剤と、を少なくとも含むポジ型感光性組成物を用いて基材の表面に、少なくとも、ポジ型感光層を形成するポジ型感光層形成工程と、該ポジ型感光層表面に、質量平均分子量が8,000〜100,000のポリビニルアルコールを少なくとも含む保護膜を形成する保護膜形成工程と、前記ポジ型感光層を、前記保護膜側から露光する露光工程と、該露光工程により露光されたポジ型感光層を現像する現像工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , G03F 7/11 , G03F 7/004 , G03F 7/20

FI (4件)：

G03F7/039 601 , G03F7/11 501 , G03F7/004 503A , G03F7/20 505

Fターム (14件)：

2H025AA01 , 2H025AB17 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025DA02 , 2H025FA12 , 2H097AB05 , 2H097BA10 , 2H097BB10 , 2H097CA17 , 2H097LA11 , 2H097LA12

引用特許：

出願人引用 (11件)

液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-000160 出願人：三星電子株式会社
化学増幅型レジスト用保護膜材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-129020 出願人：信越化学工業株式会社
特開平5-507154号公報

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