特許
J-GLOBAL ID：200903090001180813
液浸露光用洗浄装置および洗浄方法、ならびにコンピュータプログラムおよび記憶媒体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-326908
公開番号（公開出願番号）：特開2008-141043
出願日： 2006年12月04日
公開日（公表日）： 2008年06月19日
要約：
【課題】液浸露光処理の前および/または後に効率的かつ適切な条件で基板を洗浄することができる液浸露光用洗浄装置を提供すること。【解決手段】基板の表面に設けられたレジスト膜に液体を介して露光処理を施す液浸露光の前および/または後に、基板を洗浄する液浸露光用洗浄装置であって、基板に対して洗浄処理を行うための機構を備えた洗浄装置本体71と、洗浄装置本体71の各構成部を制御する制御部72とを具備し、制御部72は、基板に形成された膜の表面状態に関するパラメータの値と、そのパラメータの値に対応して適切な洗浄を行うことができるハード条件および/または処理条件との関係が記憶され、基板上に形成されている膜の表面状態が入力された際に、上述の関係に基づいて、その表面状態に応じたハード条件および/または処理条件を有する新たな処理レシピを作成し、その新たな処理レシピに基づいて洗浄処理を行わせる。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板の表面に設けられたレジスト膜に液体を介して露光処理を施す液浸露光の前および/または後に、基板を洗浄する液浸露光用洗浄装置であって、
基板に対して洗浄処理を行うための機構を備えた洗浄装置本体と、
前記洗浄装置本体の各構成部を制御する制御部と
を具備し、
前記制御部は、基板に形成された膜の表面状態に関するパラメータの値と、そのパラメータの値に対応して適切な洗浄を行うことができるハード条件および/または処理条件との関係が記憶され、基板上に形成されている膜の表面状態が入力された際に、前記関係に基づいて、その表面状態に応じたハード条件および/または処理条件を有する新たな処理レシピを作成し、その新たな処理レシピに基づいて洗浄処理を行わせることを特徴とする液浸露光用洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, H01L 21/304
H01L21/30 565
, H01L21/30 568
, H01L21/304 643A
, H01L21/304 648G
出願人引用 (8件)
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国際公開2005-029559号パンフレット
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レジストパターン形成方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-087420
出願人：株式会社東芝
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液浸露光装置および露光方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2007-274032
出願人：株式会社東芝
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審査官引用 (7件)
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