特許
J-GLOBAL ID：200903090457699632

外観検査方法及びその装置および画像処理評価システム

発明者：
渋谷 久恵

渋谷 久恵 について

, 
前田 俊二

前田 俊二 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-162770
公開番号（公開出願番号）：特開2009-002743
出願日： 2007年06月20日
公開日（公表日）： 2009年01月08日
要約：
【課題】外観検査において感度を高く設定すると虚報も多く検出してしまうため、高感度で検査することができないという問題があった。そのため、全体の欠陥捕捉率を高く維持しながら虚報を抑制することにより実質感度を向上する技術が必要であった。【解決手段】検出欠陥の画像をもとに画像特徴量を算出し、検出欠陥の位置座標をもとに座標特徴量を算出し、画像特徴量と座標特徴量のいずれかに対するしきい値処理からなる決定木に従って虚報判定を行う構成とする【効果】上記画像特徴量と座標特徴量を利用し、決定木に従って虚報判定を行うことにより、実欠陥と虚報の識別を精度よく行うことができるため、虚報を抑制しつつ高感度に検査することができる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
被検査基板上に光または電子線を照射して得られる検出信号を用いて欠陥を検出する外観検査方法であって、前記検出された欠陥の画像をもとに画像特徴量を算出する工程と、前記検出された欠陥の位置情報をもとに座標特徴量を算出する工程と、前記画像特徴量および座標特徴量のいずれかに対するしきい値処理で構成される決定木に従って虚報判定を行うことにより実欠陥の情報を出力する工程を有することを特徴とする外観検査方法。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/66
FI (4件)：
G01N21/956 A ,  G01B11/30 A ,  H01L21/66 J ,  H01L21/66 Z
Fターム (58件)：
2F065AA03 ,  2F065AA21 ,  2F065AA48 ,  2F065AA49 ,  2F065AA58 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065FF04 ,  2F065FF42 ,  2F065GG02 ,  2F065GG04 ,  2F065HH05 ,  2F065HH12 ,  2F065HH16 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ17 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL10 ,  2F065LL24 ,  2F065LL32 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ39 ,  2F065QQ41 ,  2F065QQ43 ,  2F065SS02 ,  2F065SS03 ,  2F065SS13 ,  2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051BA10 ,  2G051BA20 ,  2G051CA02 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051EB09 ,  2G051EC01 ,  2G051EC02 ,  2G051ED07 ,  2G051ED23 ,  2G051FA01 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA38 ,  4M106CA41 ,  4M106DB18 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (5件)
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