特許
J-GLOBAL ID：200903012474650425

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

, 
佐藤 健一郎

佐藤 健一郎 について

, 
青合 利明

青合 利明 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-273160
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100402
出願日： 1999年09月27日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：
【要約】【課題】 波長が220nm以下の露光光源を使用する際、感度、解像度が著しく優れ、パターンプロファイルの形状が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】220nm以下の波長の活性光線または放射線の照射によりナフタレン構造を有するスルホン酸を発生する化合物と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)220nm以下の波長の活性光線または放射線の照射によりナフタレン構造を有するスルホン酸を発生する化合物と、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (15件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025CB53 ,  2H025CB55 ,  2H025CC01 ,  2H025CC04
引用特許：
審査官引用 (13件)
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