特許
J-GLOBAL ID：200903091067737572

表面処理装置及び光学素子成形用型

発明者：
五十川 征史

五十川 征史 について


出願人/特許権者：
オリンパス株式会社

オリンパス株式会社 について


代理人 (7件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  高柴 忠夫 ,  増井 裕士 ,  加藤 清志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-349613
公開番号（公開出願番号）：特開2006-161063
出願日： 2004年12月02日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：
【課題】 プラズマ処理の際に生じるドロップレットや飛散粒子の被処理体への到達を抑えることができる表面処理装置及びそれによって表面処理される光学素子成形用型を提供すること。【解決手段】 表面処理装置1は、真空チャンバ2と、陰極とされるターゲット3と、ターゲット3から離間して配され、ターゲット3との間に形成される空間にアーク放電を誘起するアーク電極(陽極部)5とを有し、アーク放電によって生じるターゲットイオンを含むプラズマ6をターゲット3の先端方向に放出する蒸着源7と、光学素子成形用型母材(被処理体)8を載置する支持台10と、蒸着源7から放出されるプラズマ6の進行方向を支持台10の中心軸線C方向に変える偏向部11と、支持台10表面をターゲット3に対して回転移動させる移動部12とを備えている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
陰極とされるターゲットと、該ターゲットから離間して配され、前記ターゲットとの間に形成される空間にアーク放電を誘起する陽極部とを有し、前記アーク放電によって生じるターゲットイオンを含むプラズマを前記ターゲットの先端方向に放出する蒸着源と、 該蒸着源近傍における前記プラズマの放出方向に対して前記ターゲットイオンが到達する被処理体を載置する表面の法線が傾いて配される支持台と、 前記蒸着源から放出される前記プラズマの進行方向を前記支持台表面の法線方向に変える偏向部とを備え、 前記陽極部の少なくとも一部が、前記支持台と前記ターゲットとの間に延びて配されていることを特徴とする表面処理装置。
IPC (2件)：
C23C 14/24 ,  C23C 14/32
FI (2件)：
C23C14/24 F ,  C23C14/32 A
Fターム (9件)：
4K029AA29 ,  4K029BA02 ,  4K029BB01 ,  4K029BD05 ,  4K029CA03 ,  4K029CA13 ,  4K029DB08 ,  4K029DB12 ,  4K029DD06
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
  • 蒸着装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-014352   出願人：株式会社アルバック
  • 特開平1-312067
  • 光学素子用成形型及びその製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-140399   出願人：オリンパス光学工業株式会社, 経済産業省産業技術総合研究所長
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