特許
J-GLOBAL ID：200903092994059480
スパッタリングターゲットおよびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小越 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-201271
公開番号（公開出願番号）：特開2001-026862
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：
【要約】【課題】 スパッタリングターゲットを汚染させることなく、スパッタリングターゲットの上面や側面に形成された堆積膜の剥離を効果的に防止し、スパッタリング期間中の長期に亘ってパ-ティクルの異常発生を抑制し安定化させる。【解決手段】 スパッタリングターゲットの一部の面の不要な薄膜の堆積が生じる部分に、複数の凹凸が形成されるようにマスキングし、次にこれをエッチング加工した後、マスキングを除去することにより複数の凹凸を形成することを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法。
請求項（抜粋）：
スパッタリングターゲットの一部の面の不要な薄膜の堆積が生じる部分に、複数の凹凸が形成されるようにマスキングし、次にこれをエッチング加工した後、マスキングを除去することにより複数の凹凸を形成することを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法。
Fターム (4件)：
4K029BA60
, 4K029CA05
, 4K029DC03
, 4K029DC12
