特許
J-GLOBAL ID：200903093116817857
レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-360938
公開番号（公開出願番号）：特開2003-162051
出願日： 2001年11月27日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：
【要約】【課題】 高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができる電子線又はX線レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(b)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有するポジ型電子線又はX線レジスト組成物において、電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物が、特定のオニウムスルホン酸塩を2種以上含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物を含有する電子線又はX線レジスト組成物において、該電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物(a)が、スルホニウムスルホン酸塩及びヨードニウムスルホン酸塩の群から選択されるオニウムスルホン酸塩を少なくとも2種含有することを特徴とする電子線又はX線レジスト組成物。
Fターム (9件)：
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025FA17
