特許
J-GLOBAL ID：200903094597079699

純水製造装置

発明者：
大村 愼一

大村 愼一 について

, 
小野田 成一

小野田 成一 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (2件)： 早川 裕司 ,  鈴木 啓靖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-122087
公開番号（公開出願番号）：特開2007-289887
出願日： 2006年04月26日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：
【課題】酸等の薬品を添加することなく電気脱イオン装置の炭酸カルシウムのスケールの発生を防止することができ、かつ電気脱イオン装置により所定のレベル(水質)の純水を安定的に製造することができる純水製造装置を提供する。【解決手段】純水製造装置1は、原水Wが供給される前処理装置2と、前処理装置2からの処理水W4が供給され、当該処理水W4中のイオン性物質を除去する電気脱イオン装置3とを有し、前処理装置2は、脱炭酸装置21と、逆浸透膜23と、脱気膜24とをこの順に備えてなる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
原水が供給される前処理装置と、前記前処理装置からの処理水が供給され、当該処理水中のイオン性物質を除去する電気脱イオン装置とを有する純水製造装置であって、 前記前処理装置は、脱炭酸装置と、逆浸透膜と、脱気膜とをこの順に備えることを特徴とする純水製造装置。
IPC (5件)：
C02F 9/00 ,  C02F 1/469 ,  B01D 61/42 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/20
FI (10件)：
C02F9/00 502Z ,  C02F1/46 103 ,  B01D61/42 ,  C02F9/00 502F ,  C02F9/00 502H ,  C02F9/00 503B ,  C02F9/00 504B ,  C02F9/00 504D ,  C02F1/28 F ,  C02F1/20 Z
Fターム (38件)：
4D006GA03 ,  4D006GA17 ,  4D006GA32 ,  4D006KA02 ,  4D006KA51 ,  4D006KB12 ,  4D006KB17 ,  4D006KB30 ,  4D006MA13 ,  4D006MA14 ,  4D006PC02 ,  4D024AA03 ,  4D024AB14 ,  4D024BA02 ,  4D024DB08 ,  4D024DB09 ,  4D024DB11 ,  4D037AA03 ,  4D037AB11 ,  4D037BA23 ,  4D037CA01 ,  4D037CA03 ,  4D037CA04 ,  4D061DA02 ,  4D061DB13 ,  4D061EA09 ,  4D061EB13 ,  4D061FA03 ,  4D061FA06 ,  4D061FA08 ,  4D061FA09 ,  4D061FA20 ,  4D624AA03 ,  4D624AB14 ,  4D624BA02 ,  4D624DB08 ,  4D624DB09 ,  4D624DB11
引用特許：
審査官引用 (24件)
  • 純水の製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-240053   出願人：栗田工業株式会社
  • 純水の製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-131569   出願人：栗田工業株式会社
  • 特開平3-186389
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