特許
J-GLOBAL ID：200903095994420077

マスク及びその製造方法、エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法並びに電子機器

発明者：
四谷 真一

四谷 真一 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 井上 一 ,  布施 行夫 ,  大渕 美千栄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-235368
公開番号（公開出願番号）：特開2004-335487
出願日： 2004年08月12日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】 強度の大きいマスク及びその製造方法、EL装置及びその製造方法並びに電子機器を提供することにある。【解決手段】 マスクの製造方法は、開口12が形成された第1の基板10に、複数の貫通穴22が形成された第2の基板20を取り付けることを含む。複数の貫通穴22は、開口12の内側に配置する。第1及び第2の基板10,20は、陽極接合によって接合してもよい。第1及び第2のアライメントマーク14,24によって、第1及び第2の基板10,20を位置決めして取り付けてもよい。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
開口が形成された第1の基板に、複数の貫通穴が形成された第2の基板を取り付けることを含み、 前記複数の貫通穴を前記開口の内側に配置するマスクの製造方法。
IPC (4件)：
H05B33/10 ,  C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H05B33/14
FI (4件)：
H05B33/10 ,  C23C14/04 A ,  C23C14/24 G ,  H05B33/14 A
Fターム (10件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029HA03
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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