特許
J-GLOBAL ID：200903096136519681

研削・研磨用真空チャックおよび吸着板

発明者：
石川 茂治

石川 茂治 について

, 
桐山 勝之

桐山 勝之 について


出願人/特許権者：
イビデン株式会社

イビデン株式会社 について


代理人 (2件)： 安富 康男 ,  重平 和信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-090105
公開番号（公開出願番号）：特開2005-118979
出願日： 2004年03月25日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：
【課題】 被吸着体を吸着、保持するための保持面の平坦度に優れ、被吸着体の均一な研磨を実現することができる研磨用真空チャックを提供すること。【解決手段】 被吸着体を吸着、保持するための吸着板と、上記吸着板を保持する保持台とからなり、上記吸着板は、空気が透過する吸着部と、空気の透過を遮断する環状隔壁層とにより構成され、上記吸着部は、上記吸着板が上記保持台と接触する面から上記吸着板が上記被吸着体と接触する面に至る全ての部分が多孔質セラミックスにて構成されていることを特徴とする研削・研磨用真空チャック。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被吸着体を吸着、保持するための吸着板と、前記吸着板を保持する保持台とからなり、 前記吸着板は、空気が透過する吸着部と、空気の透過を遮断する環状隔壁層とにより構成され、 前記吸着部は、前記吸着板が前記保持台と接触する面から前記吸着板が前記被吸着体と接触する面に至る全ての部分が多孔質セラミックスにて構成されていることを特徴とする研削・研磨用真空チャック。
IPC (3件)：
B24B41/06 ,  B24B37/04 ,  H01L21/304
FI (3件)：
B24B41/06 L ,  B24B37/04 H ,  H01L21/304 622H
Fターム (9件)：
3C034AA20 ,  3C034BB73 ,  3C034CB08 ,  3C034DD10 ,  3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA14 ,  3C058CB01 ,  3C058DA17
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (3件)
  • 吸着盤及びその製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-287976   出願人：京セラ株式会社
  • ユニバーサルチャック
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-309490   出願人：芝山機械株式会社
  • 真空吸着装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-315078   出願人：京セラ株式会社, 株式会社ディスコ

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