特許
J-GLOBAL ID：200903096507572947
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-175330
公開番号（公開出願番号）：特開2006-349940
出願日： 2005年06月15日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：
【課題】 レジスト溶剤への溶解性が良好で、かつ露光量が変化した際のパターンサイズの変動を小さく抑えることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】 (A)樹脂成分、および(B)酸発生剤成分を含有し、前記(A)樹脂成分が、カルボキシ基および/または水酸基を含有するモノ(α-低級アルキル)アクリルレート系構成単位(a0)、酸解離性溶解抑制基を含むモノ(α-低級アルキル)アクリルレート系構成単位(a1)、ラクトン環を有するモノ(α-低級アルキル)アクリルレート系構成単位(b1)、および式(1)から誘導される構成単位(c1)を有する共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、Rは低級アルキル基または水素原子;R11、R12はそれぞれ独立して低級アルキル基;nは1〜5の整数;Aは2〜6価の有機基である。)【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および(B)放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記(A)成分が、カルボキシ基および/または水酸基を含有するモノ(α-低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a0)、酸解離性溶解抑制基を含むモノ(α-低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)、ラクトン環を有するモノ(α-低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(b1)、および下記一般式(1)で表されるポリ(α-低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(c1)を有する共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039
, C08F 220/10
, H01L 21/027
G03F7/039 601
, C08F220/10
, H01L21/30 502R
2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL61P
, 4J100BC02Q
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04Q
, 4J100BC09Q
, 4J100BC53P
, 4J100CA04
, 4J100JA37
, 4J100JA38
