特許
J-GLOBAL ID：200903096538140069
ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-054795
公開番号（公開出願番号）：特開平9-244212
出願日： 1996年03月12日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：
【要約】【課題】 ハーフトーン位相シフト膜をクロム系の多層膜により構成する場合に、その上に形成する遮光膜をウェットエッチングによりパターニンニグする際に、ハーフトーン位相シフト膜中の層がエッチングされるのを防ぐ。【解決手段】 透明基板101と、その上に形成される全ての層102、103に少なくともクロム原子とフッ素原子とを含む多層のハーフトーン位相シフト膜104と、さらにその上に形成されるフッ素原子を実質的に含まないクロム膜からなる遮光膜105とを有するハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランク、及び、これをパターンニングして形成されるハーフトーン位相シフトフォトマスク。
請求項（抜粋）：
透明基板上に多層膜からなるハーフトーン位相シフト膜のパターンを有するハーフトーン位相シフトフォトマスクにおいて、前記ハーフトーン位相シフト膜を構成する全ての層が、少なくともクロム原子とフッ素原子とを含む膜からなることを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
