特許
J-GLOBAL ID：200903096715978167

還元剤供給装置の制御装置及び制御方法

発明者：
土門 渉

土門 渉 について

, 
五十嵐 洋之

五十嵐 洋之 について

, 
中尾 英志

中尾 英志 について


出願人/特許権者：
ボッシュ株式会社

ボッシュ株式会社 について


代理人 (2件)： 江森 健二 ,  本山 敢
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-272370
公開番号（公開出願番号）：特開2009-097479
出願日： 2007年10月19日
公開日（公表日）： 2009年05月07日
要約：
【課題】還元剤噴射弁の熱損傷を防ぐとともに、液体還元剤が冷却されすぎることによる尿素溶液の結晶化を防止することができる還元剤供給装置及びその制御方法を提供する。【解決手段】内燃機関の排気通路に配設された還元触媒の排気上流側に尿素溶液を還元剤として噴射供給し、還元触媒で排気ガス中の窒素酸化物を還元浄化する排気浄化装置に用いられ、還元触媒の排気上流側で排気管に固定された還元剤噴射弁を備えた還元剤供給装置であって、還元剤噴射弁を冷却するために内燃機関の冷却水の少なくとも一部を循環させるための冷却水循環通路と、冷却水循環通路を流れる冷却水の流量を調節するための流量制御手段と、還元剤噴射弁の温度を検出するための温度検出手段と、還元剤噴射弁の温度に基づいて流量制御手段を制御するための制御手段と、を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
内燃機関の排気通路に配設された還元触媒の排気上流側に尿素溶液を還元剤として噴射供給し、前記還元触媒で排気ガス中の窒素酸化物を還元浄化する排気浄化装置に用いられ、前記還元触媒の排気上流側で排気管に固定された還元剤噴射弁を備えた還元剤供給装置において、 前記還元剤噴射弁を冷却するために前記内燃機関の冷却水の少なくとも一部を循環させるための冷却水循環通路と、 前記冷却水循環通路を流れる前記冷却水の流量を調節するための流量制御手段と、 前記還元剤噴射弁の温度を検出するための温度検出手段と、 前記還元剤噴射弁の温度に基づいて前記流量制御手段を制御するための制御手段と、 を備えることを特徴とする還元剤供給装置。
IPC (6件)：
F01N 3/08 ,  F01P 3/12 ,  B01D 53/94 ,  B01D 53/56 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/34
FI (5件)：
F01N3/08 B ,  F01P3/12 ,  B01D53/36 101Z ,  B01D53/34 129E ,  B01D53/34
Fターム (44件)：
3G091AA02 ,  3G091AA18 ,  3G091AB04 ,  3G091AB05 ,  3G091BA14 ,  3G091CA07 ,  3G091CA17 ,  3G091CB08 ,  3G091DB10 ,  3G091DB11 ,  3G091DC03 ,  3G091EA14 ,  3G091EA15 ,  3G091EA16 ,  3G091EA20 ,  3G091EA21 ,  3G091EA22 ,  3G091HA36 ,  3G091HA37 ,  3G091HA42 ,  4D002AA12 ,  4D002AC10 ,  4D002BA06 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002DA57 ,  4D002DA70 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB03 ,  4D002GB06 ,  4D002GB20 ,  4D002HA10 ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048AC03 ,  4D048CC51 ,  4D048CC61 ,  4D048DA01 ,  4D048DA02 ,  4D048DA05 ,  4D048DA06 ,  4D048DA10 ,  4D048DA20
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (9件)
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