特許
J-GLOBAL ID:200903097335933426
窒化物半導体レーザ素子及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-285405
公開番号(公開出願番号):特開平11-046038
出願日: 1997年10月17日
公開日(公表日): 1999年02月16日
要約:
【要約】【目的】 窒化物半導体よりなる面発光レーザの新規な構造とその製造方法を提供することにより、レーザ素子の低閾値化、単一モード化を実現する。【構成】 第1の主面と、第2の主面とを有する基板の第1の主面側に、n型窒化物半導体層と、活性層と、p型窒化物半導体層とを順に有し、前記基板の第2の主面側に孔が設けられて、その孔の底部に第1の反射鏡が設けられており、一方p型窒化物半導体の最表面には第2の反射鏡が設けられており、第1の反射鏡と第2の反射鏡とで活性層の発光を共振させて発振させることにより、低閾値の面発光レーザが実現できる。
請求項(抜粋):
第1の主面と、第2の主面とを有する基板の第1の主面側に、n型窒化物半導体層と、活性層と、p型窒化物半導体層とを順に有し、前記基板の第2の主面側に孔が設けられて、その孔の底部に第1の反射鏡が設けられており、一方p型窒化物半導体の最表面には第2の反射鏡が設けられており、第1の反射鏡と第2の反射鏡とで活性層の発光を共振させて発振する窒化物半導体レーザ素子。
引用特許:
審査官引用 (9件)
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窒化ガリウム系化合物半導体レーザダイオード
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-354571
出願人:豊田合成株式会社, 新技術事業団, 赤崎勇, 天野浩
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半導体レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-082869
出願人:株式会社日立製作所
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青色発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-238553
出願人:三菱電線工業株式会社
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