特許
J-GLOBAL ID:200903097539590480
半導体センサー装置およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-317972
公開番号(公開出願番号):特開2008-091845
出願日: 2006年11月27日
公開日(公表日): 2008年04月17日
要約:
【課題】 MEMS基板を気密封止する半導体センサー装置において、気密封止するキャップ基板をグラインディング、ダイシングにより個片化する工程で、キャップチップが破損する可能性がある。【解決方法】 MEMS基板の上下面にキャップ基板を接合した後、ウェットエッチングで薄肉化と個片化する方法で、キャップチップの破損を防止することができた。また、キャップチップ側面を2面以上とし側面角部を鈍角とすることで、モールド樹脂材料に入るクラックを低減できた。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
可動部を有するMEMSチップと、MEMSチップの少なくとも可動部を密封するキャ
ップチップで形成されたMEMS組立体を、配線基板もしくは回路基板にMEMS組立体
を固着し、MEMSチップと回路基板、回路基板と配線基板は配線で接続され、配線基板
上の回路基板と配線、MEMS組立体を樹脂部材で封止した半導体センサー装置であって
、MEMS組立体の少なくともMEMSチップ側面とキャップチップ側面が、ウェットエ
ッチング面で形成されていることを特徴とする半導体センサー装置。
IPC (7件):
H01L 23/28
, H01L 21/56
, G01P 15/18
, G01P 15/12
, G01P 15/08
, B81B 3/00
, B81C 3/00
FI (7件):
H01L23/28 C
, H01L21/56 T
, G01P15/00 K
, G01P15/12 D
, G01P15/08 P
, B81B3/00
, B81C3/00
Fターム (9件):
4M109AA01
, 4M109BA04
, 4M109CA21
, 4M109DB07
, 4M109GA10
, 5F061AA01
, 5F061BA04
, 5F061CA21
, 5F061FA06
引用特許:
出願人引用 (10件)
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加速度センサ
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-323761
出願人:日立金属株式会社
-
半導体センサ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-329818
出願人:株式会社デンソー
-
半導体加速度センサ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-058285
出願人:日本電気株式会社
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審査官引用 (2件)
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