濃度分布マスクとそれを用いた3次元構造体製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野口繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-132608
公開番号（公開出願番号）：特開2001-312044
出願日： 2000年05月01日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【課題】得ようとする表面形状に対処しやすくし、単位セル間の光透過量の隣接効果にも対処しやすくし、しかも設計の自由度も高める。【解決手段】基板上に3次元構造の感光性材料パターンを形成し、その感光性材料パターンを基板に彫り写すことにより3次元構造の表面形状をもつ物品を製造する際に、感光性材料パターンを形成するための露光に用いる濃度分布マスクであり、透明基板上に2次元の光強度分布を有する遮光パターンが形成されたものである。この濃度分布マスクは、適当な形状及び大きさで、複数種類の単位セルにより隙間なく分割され、各単位セル内の遮光パターンが感光性材料パターンの対応した位置の高さに応じた光透過量又は遮光量となるように設定されている。

請求項（抜粋）：

基板上に3次元構造の感光性材料パターンを形成し、その感光性材料パターンを前記基板に彫り写すことにより3次元構造の表面形状をもつ物品を製造する際に、前記感光性材料パターンを形成するための露光に用いる濃度分布マスクにおいて、この濃度分布マスクは透明基板上に2次元の光強度分布を有する遮光パターンが形成されたものであり、この濃度分布マスクは適当な形状及び大きさの単位セルにより隙間なく分割されており、各単位セル内の遮光パターンが前記感光性材料パターンの対応した位置の高さに応じた光透過量又は遮光量となるように設定されていることにより前記遮光パターンが構成されていることを特徴とする濃度分布マスク。

IPC (4件)：

G03F 1/08 , B81C 1/00 , G03F 7/207 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 D , G03F 1/08 L , B81C 1/00 , G03F 7/207 Z , H01L 21/30 502 P

Fターム (10件)：

2H095BB02 , 2H095BB32 , 2H095BB36 , 2H095BC08 , 2H095BC09 , 2H097BA01 , 2H097BB01 , 2H097FA09 , 2H097JA02 , 2H097LA15

引用特許：

審査官引用 (10件)

マイクロレンズの製造方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-513119 出願人：ロッキードミサイルズアンドスペースカンパニーインコーポレイテッド
特表平7-509325
レジストパターン形成用のマスク、レジストパターンの形成方法およびレンズの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-311002 出願人：沖電気工業株式会社

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