特許
J-GLOBAL ID:200903098827319770

ルテニウム化合物および金属ルテニウム膜の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大島 正孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-318133
公開番号(公開出願番号):特開2005-060814
出願日: 2003年09月10日
公開日(公表日): 2005年03月10日
要約:
【課題】 良質の膜状金属ルテニウムを得ることができるルテニウム化合物およびそれを用いて化学気相成長方法により金属ルテニウム膜を製造する方法を提供すること。【解決手段】 化学気相成長材料であるルテニウム化合物は、例えば下記式(1)で表される。【化1】【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記式(1)
IPC (7件):
C23C16/18 ,  C07C11/12 ,  C07C13/263 ,  C07C22/02 ,  C07C53/126 ,  C07F19/00 ,  H01L21/285
FI (7件):
C23C16/18 ,  C07C11/12 ,  C07C13/263 ,  C07C22/02 ,  C07C53/126 ,  C07F19/00 ,  H01L21/285 C
Fターム (23件):
4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB90 ,  4H006BS10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ05 ,  4H049VR24 ,  4H049VU24 ,  4H050AA01 ,  4H050AA03 ,  4H050AB90 ,  4H050WB11 ,  4H050WB21 ,  4K030AA11 ,  4K030BA01 ,  4K030CA04 ,  4K030FA10 ,  4K030LA15 ,  4M104BB04 ,  4M104DD43 ,  4M104DD45
引用特許:
出願人引用 (8件)
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