薬液処理装置および薬液処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：船橋國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-366431
公開番号（公開出願番号）：特開2007-173367
出願日： 2005年12月20日
公開日（公表日）： 2007年07月05日
要約：

【課題】異なる薬液を混合して用いる薬液処理において、異なる薬液をより確実に混合することが可能であり、これにより混合薬液による処理効果を高めることが可能な薬液処理装置および薬液処理方法を提供する。【解決手段】異なる薬液La,Lbを混合して供給する薬液供給管3を備えた薬液処理装置1であって、薬液供給管3には超音波混合部34が設けられており、配管内の薬液La,Lbを超音波振動させる超音波照射手段34aが設けられていることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

異なる薬液を混合して供給する薬液供給管を備えた薬液処理装置であって、前記薬液供給管内の薬液を超音波振動させる超音波照射手段が設けられていることを特徴とする薬液処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 , H01L 21/027

FI (4件)：

H01L21/304 648G , H01L21/304 648K , H01L21/304 647Z , H01L21/30 572B

Fターム (1件)：

5F046MA10

引用特許：

出願人引用 (1件)

基板処理装置および基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-328596 出願人：トレセンティテクノロジーズ株式会社, 大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (8件)

レジスト供給装置およびレジスト塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-158507 出願人：三菱電機株式会社, 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社
被処理物の表面処理方法および被処理物の表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-005900 出願人：高周波フィールド株式会社
異形樹脂粒子、樹脂粒子の異形化方法、及び異形樹脂粒子からなる電子写真用トナー
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-273120 出願人：株式会社東芝

全件表示

前のページに戻る