処理システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐々木聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-096111
公開番号（公開出願番号）：特開2004-304003
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：

【課題】システム内の一部でプロセスフローが滞っても上流側の処理部あるいは被処理基板の受ける影響を最小限に食い止めること。【解決手段】上流側のオーブンタワー(TB)44では、搬入用パスユニット(PASS)50の上に加熱ユニット(DHP)51,52およびアドヒージョンユニット(AD)54が多段に積み重ねられ、タワー最上段にバッファユニット(BUF)66が配置される。下流側のオーブンタワー(TB)48では、搬出用パスユニット(PASS)58の上に冷却ユニット(COL)59,60およびアドヒージョンユニット(AD)62が多段に積み重ねられ、タワー最上段にバッファユニット(BUF)66が配置される。搬送機構46は、昇降ないし旋回運動して両隣のオーブンタワー(TB)44,48の中の任意のユニットにアクセスして基板の搬入出を行う。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

プロセスフローにおいて上流側の第1の処理部から被処理基板を受け取るための第1の受け渡しユニットと、プロセスフローにおいて下流側の第2の処理部へ前記基板を受け渡すための第2の受け渡しユニットと、前記第1の受け渡しユニットおよび前記第2の受け渡しユニットのそれぞれの上または下に多段に積層配置される1つまたは複数の処理ユニットと、前記基板を一時的に留め置いて保管するために前記第1の受け渡しユニットおよび/または前記第2の受け渡しユニットと前記処理ユニットを含む多段ユニット部の最上段に配置されるバッファユニットと、前記第1および第2の受け渡しユニット、前記処理ユニットならびに前記バッファユニットの間で前記基板を搬送する搬送手段とを有する処理システム。

IPC (3件)：

H01L21/027 , B65G49/06 , H01L21/68

FI (3件)：

H01L21/30 562 , B65G49/06 Z , H01L21/68 A

Fターム (23件)：

5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031FA02 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031GA51 , 5F031GA53 , 5F031HA33 , 5F031HA37 , 5F031HA38 , 5F031MA23 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031NA02 , 5F046CD05 , 5F046JA00 , 5F046KA00 , 5F046LA00

引用特許：

審査官引用 (7件)

板状体の搬送装置および搬送方法、ならびに処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-081002 出願人：東京エレクトロン株式会社
収容装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-288678 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-079321 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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