特許
J-GLOBAL ID：201003000161155736
プラズマ処理装置及び処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 武和国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-064261
公開番号（公開出願番号）：特開2010-161403
出願日： 2010年03月19日
公開日（公表日）： 2010年07月22日
要約：
【課題】真空真空容器内壁に堆積する堆積膜を制御することにより量産安定性に優れたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】真空処理室内の下部に配置されその上面に試料が載置される載置台と、真空処理室の上部を形成して前記載置台上方のプラズマ生成空間を覆うベルジャ12と、前記ベルジャ外周に配置され前記真空処理室内の前記プラズマ生成空間にプラズマを生成するための高周波電界を供給するコイル状のアンテナ1と、前記アンテナとベルジャ間に配置するとともに高周波バイアス電圧が付与されるファラデーシールド8と、前記ベルジャ及びファラデーシールドの下端部下方で前記真空処理室を構成して配置された導体製のリング状部材4と、前記リング状部材及び前記ベルジャの内周側壁面をすき間を開けて覆って配置され所定の電位にされた導体製の板状部材22とを備えた。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空処理室内の下部に配置されその上面に試料が載置される載置台と、
真空処理室の上部を形成して前記載置台上方のプラズマ生成空間を覆うベルジャと、
前記ベルジャ外周に配置され前記真空処理室内の前記プラズマ生成空間にプラズマを生成するための高周波電界を供給するコイル状のアンテナと、前記アンテナとベルジャ間に配置するとともに高周波バイアス電圧が付与されるファラデーシールドと、
前記ベルジャ及びファラデーシールドの下端部下方で前記真空処理室を構成して配置された導体製のリング状部材と、
前記リング状部材及び前記ベルジャの内周側壁面をすき間を開けて覆って配置され所定の電位にされた導体製の板状部材とを備えたプラズマ処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
5F004AA15
, 5F004BA20
, 5F004BB22
, 5F004BB29
, 5F004BC03
, 5F004CA03
, 5F004CA06
