特許
J-GLOBAL ID：201003014886812164
フォトマスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-168239
公開番号（公開出願番号）：特開2010-008738
出願日： 2008年06月27日
公開日（公表日）： 2010年01月14日
要約：
【課題】フォトマスクの製造工程を適切に自動化する。【解決手段】回転装置の載置部にマスクブランク10を設置し、回転装置でマスクブランク10の方向を制御して露光描画機102に設置し、露光描画するフォトマスクの製造方法であって、端面22aに識別マーカ18が設けられたマスクブランク10における欠陥情報を、情報記憶装置に識別マーカ18と対応付けて記憶する欠陥情報記憶工程と、露光描画機102に対するマスクブランク10の設置方向を決定する設置方向決定工程と、マスクブランクの方向が決定した設置方向になるように、回転装置を回転制御する方向補正工程とを有し、設置方向決定工程は、マスクブランクの識別マーカ18を検出器で検出し、情報記憶装置に照会して欠陥情報を取得し、マスクパターンの描画情報と欠陥情報とから、設置方向を決定する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
回転装置の載置部に前記基板の上面にマスクパターン用薄膜及びレジスト膜を順に積層してなるマスクブランクを設置し、前記回転装置で前記マスクブランクの方向を制御して露光描画機に設置し、前記露光描画機で前記レジスト膜にマスクパターンを露光描画するフォトマスクの製造方法であって、
前記基板の少なくとも一の端面に識別マーカが設けられた前記マスクブランクにおける前記基板、前記マスクパターン用薄膜、及び前記レジスト膜のうち少なくとも1つに関する欠陥の種類、及び前記識別マーカの位置を基準とした欠陥の位置からなる欠陥情報を、情報記憶装置に前記識別マーカと対応付けて記憶する欠陥情報記憶工程と、
前記露光描画機に対する前記マスクブランクの設置方向を、前記識別マーカの方向を基準として決定する設置方向決定工程と、
前記識別マーカの方向を基準として、前記載置部上の前記マスクブランクの方向が前記設置方向決定工程で決定した前記設置方向になるように、前記回転装置を回転制御する方向補正工程と
を有し、
前記設置方向決定工程は、前記載置部上に設置された前記マスクブランクの識別マーカを検出器で検出し、前記情報記憶装置に照会して前記欠陥情報を取得し、前記露光描画機が露光描画するマスクパターンの描画情報と前記欠陥情報とから、前記マスクブランクから作製するフォトマスクのパターン転写機能に前記欠陥が悪影響を与えないマスクパターンの前記基板上の配置となる前記設置方向を決定することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 R
, H01L21/30 541L
2H095BA01
, 2H095BB10
, 2H095BB34
, 2H095BD02
, 2H095BE04
, 5F056BD04
, 5F056CB25
, 5F056EA13
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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