特許
J-GLOBAL ID：201003022314446186
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人第一国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-315631
公開番号（公開出願番号）：特開2010-141104
出願日： 2008年12月11日
公開日（公表日）： 2010年06月24日
要約：
【課題】プラズマ処理装置の装置内部材の温度を安定化し、CD(Critical Dimension)精度の変動の少ないプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置の誘電体窓103に温風ユニット125を接続し、誘電体窓103あるいはシャワープレート102の温度を温度センサー128により計測した温度信号を元に、温風ユニット125を制御して誘電体窓103あるいはシャワープレート102の温度制御を行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空排気装置が接続され内部を減圧可能な誘電体窓と真空容器により密閉された処理室と、該処理室内へガスを供給するガス供給装置と、被処理材を載置可能でかつ温度制御器により温度制御が可能な基板電極と、該誘電体窓よりプラズマを発生するための電磁波を導入するための高周波導入手段と、該高周波導入手段に接続された高周波電源とからなるプラズマ処理装置において、
該誘電体窓温度をモニターするための放射型温度センサーを有し、該温度センサーにより測定した信号を元に、装置状態の監視が可能なことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
FI (5件)：
H01L21/302 101D
, H01L21/302 101C
, H01L21/302 101G
, H05H1/46 L
, H05H1/46 C
5F004AA01
, 5F004AA16
, 5F004BA16
, 5F004BA20
, 5F004BB14
, 5F004BB22
, 5F004BB25
, 5F004BB26
, 5F004CA04
, 5F004CA09
, 5F004CB09
, 5F004CB12
, 5F004EA40
