特許
J-GLOBAL ID：201003052410594745

平坦化物の製造方法、平坦化物、被処理面の平坦化方法

発明者：
岸本 好弘

岸本 好弘 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 吉村 俊一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-282804
公開番号（公開出願番号）：特開2010-110897
出願日： 2008年11月04日
公開日（公表日）： 2010年05月20日
要約：
【課題】より高い平坦性を有する平坦化物が得られる平坦化物の製造方法、平坦化物、及び被処理面の平坦化方法を提供する。【解決手段】少なくとも基材1を有する平坦化物の製造方法であって、近接場光4a,4b,4cを用いて被処理面をエッチングする近接場エッチング処理工程を有する平坦化物の製造方法とする。また、平坦化物は、この平坦化物の製造方法で製造される。さらに、被処理面の平坦化方法は、近接場光を用いて被処理面をエッチングすることにより、この被処理面2の最大突起5a,5b,5c長(Rmax)を10nm以下とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも基材を有する平坦化物の製造方法であって、近接場光を用いて被処理面をエッチングする近接場エッチング処理工程を有することを特徴とする平坦化物の製造方法。
IPC (6件)：
B29C 59/14 ,  B32B 18/00 ,  B32B 27/00 ,  C23C 14/02 ,  B65D 65/40 ,  H01B 13/00
FI (6件)：
B29C59/14 ,  B32B18/00 Z ,  B32B27/00 Z ,  C23C14/02 ,  B65D65/40 A ,  H01B13/00 503B
Fターム (58件)：
3E086AB02 ,  3E086BA04 ,  3E086BA13 ,  3E086BA15 ,  3E086BA50 ,  3E086BB02 ,  3E086BB05 ,  3E086CA31 ,  3E086DA01 ,  4F100AA01B ,  4F100AA01C ,  4F100AG00A ,  4F100AK01A ,  4F100AR00D ,  4F100AT00A ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100EJ15 ,  4F100EJ52 ,  4F100EJ85 ,  4F100GB15 ,  4F100GB41 ,  4F100JD03 ,  4F100JG01D ,  4F100JN01D ,  4F209AD04 ,  4F209AD08 ,  4F209AD20 ,  4F209AF01 ,  4F209AF16 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AM25 ,  4F209PA14 ,  4F209PA15 ,  4F209PB01 ,  4F209PC03 ,  4F209PH02 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029AA25 ,  4K029BA41 ,  4K029BA45 ,  4K029BB02 ,  4K029CA05 ,  4K029DC34 ,  4K029DC35 ,  4K029GA02 ,  5G323BA02 ,  5G323BB01 ,  5G323BB02 ,  5G323BB03 ,  5G323BB04 ,  5G323BB05 ,  5G323BC03
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (6件)
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