特許
J-GLOBAL ID：201003053285228363
レーザマーカ及びレーザマーキングシステム
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-303308
公開番号（公開出願番号）：特開2010-125489
出願日： 2008年11月28日
公開日（公表日）： 2010年06月10日
要約：
【課題】レーザマーカにおいてタクトタイムをあまり低下させることなく湾曲部の内回り現象をなくし、印字品質を向上させること。【解決手段】印字すべきパターンとして、あらかじめ線分毎に始点,終点と線種情報とをメモリ部21に記憶させておく。マーキング時にはメモリ部21より順次データを読み出し、直線であれば設定されたスキャン速度でスキャニングを行う。円弧の場合にはスキャン速度を低下させると共に、低下させたスキャン速度に応じたレーザパワーとなるようにレーザ光源の出力レベルを低下させてマーキングを行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レーザ光を用いて加工対象の表面にマーキングを行うレーザマーカであって、
レーザ光を発生させるレーザ光源と、
前記レーザ光源で得られるレーザ光を印字対象物の面上で少なくとも2次元で走査する走査手段と、
マーキングすべきパターンについて、該パターンを構成する線分が直線か曲線かを示す線種、及びマーキングの位置情報を含むパターンテーブルを保持するメモリ部と、
前記メモリ部に保持された線分が直線のときに、第1のスキャン速度でスキャニングするように前記走査手段を制御し、前記メモリ部に保持された線分が曲線のときに、前記第1のスキャン速度以下の第2のスキャン速度で走査するように制御すると共に、前記レーザ光源の出力レベルをスキャン速度の低下に合わせて低下させるよう制御する制御手段と、を具備するレーザマーカ。
IPC (3件)：
B23K 26/00
, B23K 26/08
, G02B 26/10
B23K26/00 B
, B23K26/00 M
, B23K26/08 B
, G02B26/10 F
, G02B26/10 104Z
2H045AB22
, 2H045BA12
, 2H045DA24
, 4E068AB00
, 4E068CB01
, 4E068CE03
出願人引用 (2件)
審査官引用 (8件)
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