特許
J-GLOBAL ID：201003086320895462
超短レーザ微細テクスチャ印刷
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-546579
公開番号（公開出願番号）：特表2010-516472
出願日： 2008年01月22日
公開日（公表日）： 2010年05月20日
要約：
固体基材のレーザテクスチャリングを行うシステムおよび方法が開示される。テクスチャリングを使用して、鋼、アルミニウム、ガラス、およびシリコンを含むことができる基材から取得可能なグレースケール画像をもたらすことができる。いくつかの実施形態では、基材または基材表面の反射、回折および/または吸収特徴を、ランダム、周期的、および/または半周期的な微細構造フィーチャを基材(または基材表面)上に超高速レーザパルス列で形成することにより改質して、画像が基材から取得可能となる。微細構造フィーチャは、超高速パルス列の光の波長よりもわずかに大きな、それと同等の、かつ/またはそれよりも小さな平均サイズを有する。超高速パルス列は、例えば光露光時間、パルス列強度、レーザ偏光、レーザ波長、または前述のものの組合せを変化させるために変調できる。微細構造フィーチャは、基材付近の環境(例えば、いくつかの実施形態では反応性化学種を含むことができる雰囲気)を制御することにより改質できる。
請求項（抜粋）：
グレースケール画像が媒体から取得可能となるように前記媒体を改質する方法においてて、
表面を有する媒体を備えるステップと、
約100ピコ秒未満のパルス幅を有する複数の光パルスを含み、前記媒体の前記表面に光エネルギーを供給するレーザビームを、前記表面に対して走査するステップと、
前記媒体の前記表面のさまざまな領域に供給される前記光エネルギーを変化させるステップであって、それにより、前記領域の反射率、吸収率および回折特性のうち少なくとも1つを改変して、前記媒体から取得可能な前記グレースケール画像をもたらすステップと
を備えることを特徴とする方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
B23K26/00 B
, B23K26/08 B
, B23K26/00 N
4E068AB00
, 4E068CA02
, 4E068CA03
, 4E068CE03
, 4E068DA13
