特許
J-GLOBAL ID：201003096727245301
光硬化性転写シート、及びこれを用いた凹凸パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江藤 聡明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-002188
公開番号（公開出願番号）：特開2010-161186
出願日： 2009年01月08日
公開日（公表日）： 2010年07月22日
要約：
【課題】電子デバイス、光学部品、記録媒体等の作製に有用なナノインプリントプロセス法において、中間スタンパの作製に有利に使用することができる光硬化性転写シートであって、その際に使用される微細凹凸パターンを有する金型との剥離性、及びその中間スタンパから凹凸パターンが転写された製品の光硬化樹脂との剥離性が良好であり、且つ、基材フィルムとの密着性が良好である光硬化性転写シートを提供する。さらに、上記光硬化性転写シートを用いて微細な凹凸パターンを形成する方法を提供する。【解決手段】加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層11を有する光硬化性転写シート10であって、前記光硬化性組成物が、滑剤としてシリコーン系樹脂及び/又はフッ素原子含有エチレン性化合物を含み、光硬化性転写層11の表面エネルギーが20mN/mを超え、30mN/m未満であることを特徴とする光硬化性転写シート10。更に、これを用いた凹凸パターンを形成する方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有する光硬化性転写シートであって、
前記光硬化性組成物が、滑剤としてシリコーン系樹脂及び/又はフッ素原子含有エチレン性化合物を含み、光硬化性転写層の表面エネルギーが20mN/mを超え、30mN/m未満であることを特徴とする光硬化性転写シート。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
4F209AA16
, 4F209AA33
, 4F209AA43
, 4F209AA44
, 4F209AB07
, 4F209AD08
, 4F209AD20
, 4F209AF01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AH75
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
