特許
J-GLOBAL ID：201103001829579197

基板処理装置

発明者：
後藤 茂宏

後藤 茂宏 について

, 
小林 寛

小林 寛 について

, 
松永 実信

松永 実信 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-389296
公開番号（公開出願番号）：特開2003-188090
特許番号：特許第3898048号
出願日： 2001年12月21日
公開日（公表日）： 2003年07月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板に処理液を塗布する処理を行う装置であって、 基板を水平に保持可能な基板保持手段と、 処理液吐出口を有し、処理液を当該処理液吐出口から前記基板上に連続的に吐出可能な処理液吐出手段と、 前記処理液吐出手段に対し配管を通じて処理液を供給する処理液供給手段と、 前記基板保持手段と前記処理液吐出手段とを相対的に移動させる駆動手段と、 先端の形状を利用して前記処理液吐出口からの処理液の吐出状態を安定させる吐出補助手段と、 を含み、 前記駆動手段によって前記処理液吐出手段を相対的に移動させつつ前記処理液吐出口から処理液を吐出させることで前記基板上への前記処理液の連続的塗布を行う塗布処理部を備え、 前記吐出補助手段の先端を前記処理液吐出口の近傍に位置させた状態で、前記処理液吐出手段が吐出動作を開始する、 ことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G02F 1/13 ( 200 6.01) ,  G02F 1/1333 ( 200 6.01) ,  G03F 7/16 ( 200 6.01)
FI (5件)：
H01L 21/30 564 Z ,  H01L 21/30 569 Z ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/133 500 ,  G03F 7/16 501
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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