特許
J-GLOBAL ID：201103004696399670
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-158695
公開番号（公開出願番号）：特開2000-347409
特許番号：特許第3992882号
出願日： 1999年06月04日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)下記一般式〔I〕又は一般式〔II〕で表される、活性光線又
は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(B)下記一般式(BI)で表される繰り返し単位を有し、かつ酸の作用により分解し、アルカリに対する溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
式(BI)中:
Rb1は、水素原子、ハロゲン原子又は1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。Rb2〜Rb4は、各々独立に、水素原子又は水酸基を表す。ただし、Rb2〜Rb4のうち少なくとも1つは、水酸基を表す。
式〔I〕中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシロキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基を表す。
式〔II〕中、R3〜R5はそれぞれ、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシロキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基を表す。
a:1〜5、
b:1〜5、
l:1〜5、
m:0〜5、
n:0〜5を表す。
但し、R1 、R2 の少なくとも一方は、炭素数5個以上の、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシロキシ基を表す。
l+m+n=1の時、R3 は、炭素数2以上であり、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシロキシ基を表す。
X:R-SO3 、
R:置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示
前のページに戻る
