液処理装置、液処理方法、プログラムおよびプログラム記録媒体

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：吉武賢次 , 永井浩之 , 岡田淳平 , 勝沼宏仁 , 磯貝克臣 , 堀田幸裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-179283
公開番号（公開出願番号）：特開2011-035128
出願日： 2009年07月31日
公開日（公表日）： 2011年02月17日
要約：

【課題】被処理体の処理に用いられる液の温度変動を抑制することができる液処理装置を提供する。【解決手段】液処理装置10は、液供給機構15と、液供給装置に接続され温度調節された液を吐出する吐出開口30aを有した供給ライン30と、供給ラインの吐出開口を支持しする処理ユニット50と、供給ラインに供給された液を液供給機構へ戻す戻しライン35と、処理ユニットでの被処理体の処理に用いられる液の供給および供給停止を切り替える液供給切り替え弁38aと、を有する。液供給切り替え弁38aは、供給ライン30上に設けられ、供給ライン30から戻しライン35を介して液供給機構15へ戻る液の経路上に、位置している。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

温度調節された液を用いて被処理体を処理する液処理装置であって、液を供給する液供給機構と、前記液供給機構に接続され、温度調節された液を吐出する吐出開口を有した供給ラインと、前記供給ラインを支持し、前記供給ラインの吐出開口から吐出される温度調節された液を用いて前記被処理体を処理し得るように構成された処理ユニットと、前記供給ラインに供給された液を前記液供給機構へ戻す戻しラインと、前記供給ライン上に設けられ、前記処理ユニットでの被処理体の処理に用いられる液の前記吐出開口への供給および供給停止を切り替える液供給切り替え弁と、を有し、前記液供給切り替え弁は、前記供給ラインから前記戻しラインを介して前記液供給機構へ戻る液の経路上に、位置している、液処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 , B08B 3/02 , B08B 3/10

FI (5件)：

H01L21/304 648G , H01L21/304 648F , H01L21/304 643A , B08B3/02 A , B08B3/10 Z

Fターム (53件)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB34 , 3B201BB23 , 3B201BB45 , 3B201BB55 , 3B201BB82 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201CB15 , 3B201CC01 , 3B201CC11 , 3B201CC12 , 3B201CD22 , 3B201CD42 , 3B201CD43 , 5F043EE07 , 5F043EE08 , 5F043EE10 , 5F043EE21 , 5F043EE27 , 5F157AA03 , 5F157AB02 , 5F157AB13 , 5F157AB33 , 5F157AB44 , 5F157AB90 , 5F157AC01 , 5F157AC26 , 5F157BB23 , 5F157BB45 , 5F157BB66 , 5F157BC12 , 5F157CA03 , 5F157CB03 , 5F157CB14 , 5F157CB15 , 5F157CB22 , 5F157CC02 , 5F157CD32 , 5F157CD33 , 5F157CE10 , 5F157CE32 , 5F157CE36 , 5F157CF04 , 5F157CF14 , 5F157CF34 , 5F157CF42 , 5F157CF50 , 5F157CF60 , 5F157CF99 , 5F157DB37 , 5F157DC86

引用特許：

出願人引用 (7件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-343780 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-057815 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-112862 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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審査官引用 (7件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-343780 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-057815 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-112862 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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