特許
J-GLOBAL ID：201103008263456445
有機発光装置の製造方法及び有機発光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
アイ・ピー・ディー国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-264139
公開番号（公開出願番号）：特開2011-124228
出願日： 2010年11月26日
公開日（公表日）： 2011年06月23日
要約：
【課題】TFT工程時に高温でもバリア層の特性に変化がなく、基板のストレスを軽減させて工程安定性を高めることができるだけでなく、基板の量産が可能な、新規かつ改良された有機発光装置の製造方法及び有機発光装置を提供する。【解決手段】有機発光装置の製造方法は、基板10を用意する工程と、基板10上にバリア層20を形成する工程とを含み、バリア層20を形成する工程は、基板10上にバリア層側第1無機膜21を形成する工程と、バリア層側第1無機膜21上にポリイミド形成用モノマーを、熱蒸着法、プラズマ化学気相蒸着または原子層蒸着法を利用して蒸着させた後、熱処理することでポリイミドからなるバリア層側第1有機膜22を形成する工程と、バリア層側第1有機膜22上にバリア層側第2無機膜23を形成する工程と、を含む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板を用意する工程と、
前記基板上にバリア層を形成する工程と、
前記バリア層上に、第1電極、有機発光層及び第2電極を順次に含む有機発光素子を形成する工程と、
前記有機発光素子を覆う封止層を形成する工程と、を含み、
前記バリア層を形成する工程は、
前記基板上にバリア層側第1無機膜を形成する工程と、
前記バリア層側第1無機膜上にポリイミド形成用モノマーを、熱蒸着法、プラズマ化学気相蒸着または原子層蒸着法を利用して蒸着させた後、熱処理することでポリイミドからなるバリア層側第1有機膜を形成する工程と、
前記バリア層側第1有機膜上にバリア層側第2無機膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする有機発光装置の製造方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H01L 51/50
, H05B 33/04
H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/04
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC23
, 3K107CC24
, 3K107CC25
, 3K107CC45
, 3K107DD16
, 3K107DD17
, 3K107DD18
, 3K107EE48
, 3K107EE49
, 3K107EE50
, 3K107FF15
, 3K107FF17
, 3K107GG03
, 3K107GG04
, 3K107GG26
, 3K107GG37
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (14件)
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